一、設備用途（tú）及（jí）工藝條件簡述

1.1、設備用途：用於氣氛保護下燒結、真空下反應燒結等

1.2、爐內氣氛：氮氣、氬氣等保護性氣體

1.3、真空度：可抽真空，≤10Pa （配機械泵）

1.4、作業方式：手動取放（fàng）樣品

1.5、使用環境：環境（jìng）溫度≤40℃，相對濕度≤85%，設備周圍無導電塵埃和易燃易爆（bào）氣體。

二、主要特點：

真空井式坩堝爐，集控製係統與爐（lú）膛為一體。其爐膛保溫材料（liào）采用（yòng）整（zhěng）體真空吸附成型，程控鑲嵌進口電阻絲，超大口徑的石英爐腔（石英桶（tǒng））和真空水冷密封法蘭（lán）係（xì）統，可以在流動氣氛和（hé）真空狀態下快速加熱樣品，能很好的替代真空箱（xiāng）式爐。爐子上部配有泄壓（yā）閥，很好保證在通氣氛使用情況下的安全。

三、主要（yào）技術參數

該設備可添加（jiā）我司自主研發（fā）的（de）真空平衡係統，實現動態的真空平衡（héng）既邊通氣氛邊（biān）抽真空使（shǐ）其腔體內部壓力穩定在設定負壓，精度±1Pa。亦可不通氣（qì）氛隻抽真空實現所需（xū）要的（de）真空度。