PECVD係統就是為了使傳統的化學（xué）氣象沉積（CVD）反應溫度降低，在普通CVD裝置的前端加（jiā）入（rù）RF射頻感（gǎn）應裝置將反（fǎn）應（yīng）氣體電離，形成（chéng）等離子體，

利用等離子體的活性（xìng）來促進反應，所以這個係統稱為增強型化學氣（qì）相沉積係統（PECVD）。

主要特點：

1. 管內真空（kōng）度（dù）自動平衡——管內真空度（dù）實（shí）時監測，自動平衡。PECVD工藝要求石英管內真空度通常在0.1～100Pa之間，該（gāi）型（xíng）號PECVD的AIO控製係（xì）統會（huì）通過真空泵的自動啟停來（lái）維持用戶設定的管內真空度，使（shǐ）成膜效果達最佳的均勻性。

2. AIO控製係統——加熱控製、等離子射頻控製、氣體流量控（kòng）製、真空係（xì）統（tǒng）控製集中於一個7英寸觸摸屏進行統一集中調節和操控（kòng），協調控製（zhì）——成儀AIO控（kòng）製係統；

3. 射頻功（gōng）率的定時控製——預先設定好功率的大小和（hé）打開與（yǔ）關閉（bì）的時間，自動運行；

4. 爐膛（táng）移動速度可（kě）調——根據（jù）實驗要求（qiú），用戶可設定爐膛左右移動的（de）速度可距（jù）離，在沉積（jī）結束後（hòu）爐膛可自動移開沉積區，使樣（yàng）品快速冷卻（què）；

5.增加了氣（qì）體（tǐ）預熱溫區，在氣體電離前把反應氣體加熱到實驗溫度，使得沉積效（xiào）果更（gèng）佳穩定，縮短沉積時間。